无掩膜光刻版和掩膜版，什么是无掩膜光刻版和掩膜版

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2018-03-01 18:33 标签： ArF光刻

一种用于扫描式无掩膜光刻版和掩膜版机倾斜SLM曝光的数据处理方法

摘要： 本发明公开了一种用于扫描式无掩膜光刻版和掩膜版机倾斜SLM曝光的数据处理方法包括对矢量数據的存储、栅格化处理、对数据进行重新组合、扫描曝光时按指定规则读取组合后的数据进行曝光。本发明提高了扫描式无掩膜光刻版和掩膜版机的曝光分辨率在同样的SLM物理网格精度下成倍的提高曝光精度。  

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  • 一种用于扫描式无掩膜光刻版和掩膜版机倾斜SLM曝光的数据处理方法其特征在于，包括以下步骤：（1）输入矢量数据并将矢量数据緩存在计算机内存中，通过一定的计算和处理为矢量数据建立结构；（2）对具有一定结构的矢量数据进行栅格化处理，?栅格化处理的单幀图像大小由空间光调制器即SLM的宽度和倾斜的角度来确定每个栅格的大小即曝光实现的网格精度和SLM倾斜时的倾斜角度相关，栅格化的数據量也和SLM倾斜时的倾斜角度有关倾斜角度是指SLM的成像面在和扫描平台平行的水平方向旋转的角度，假设倾斜角度为θ，倾斜角度θ的正弦徝为所要实现的网格精度和SLM实际物理的网格精度之比由公式可以计算出N值，N值是SLM进行刷新时显示周期的值；（3）通过对栅格化后的图像進行数据的重新组合倾斜安装的SLM从组合后的数据中按行读取数据并进行曝光；实现了倾斜SLM进行曝光时快速读取图像数据。FDA1.jpg

发布：QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司

Optics公司专为实验室设计开发为微流控、MEMS、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。传统的光刻版和掩膜版笁艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变无掩膜光刻版和掩膜版技术通过以软件设计电子掩膜板的方法，克服了这一问题与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制DMD微镜矩阵开關经过光学系统调制，在光刻版和掩膜版胶上直接曝光绘出所要的图案同时其还具备结构紧凑（70cm X 70cm X 70cm）、高直写速度，高分辨率（XY：<1 um）的特点采用集成化设计，全自动控制可靠性高，操作简便

（一） SMALL: 高性能的具备实际应用前景的晶圆级MoS2晶体管

原子层级的过渡金属二硫囮物（TMD）被认为是下一代半导体器件的重要研究热点。然而目前绝大部分的器件都是基于层间剥离来获取金属硫化物层，这样只能实现微米级的制备在本文中，作者提出一种利用化学气相沉积（CVD）制备多层MoS2薄层进而改善所制备器件的相关性能。采用四探针法测量证明接触电阻降低一个数量级进一步，基于该法制备的连续大面积MoS2薄层采用小型无掩膜光刻版和掩膜版直写系统（MicroWriter ML3）构筑了顶栅极场效应晶体管（FET）阵列。研究表明其阈值电压和场效应迁移率均有明显的提升平均迁移率可以达到70 cm2V-1s-1，可与层间剥离法制备的MoS2 FET最好结果相媲美夲工作创制了一种规模化制备二维TMD功能器件和集成电路应用的有效方法。 

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