什么叫磁控溅射射作为自己的研究方向以后好找工作吗

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2017-09-22 09:34 标签： 什么叫磁控溅射

主要的溅射方法可以根据其特征汾为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）什么叫磁控溅射射；（4）反应溅射另外，利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积

现在的直流溅射（也叫二级溅射）较少用到，原因是溅射气压较高电压较高，溅射速率小膜层不稳定等缺点。

直流溅射发展后期人们在其表面加上一定磁场，磁场束缚住自由电子后以上缺点均有所改善，也是现阶段广泛应用的一种溅射方法

而后又有中频溅射，提高了阴极发电速率不易造成放电、靶材中毒等现象。

而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料。沉积的膜层致密附着力良好。

如果寻找本质区别是：直流溅射是气体放电的前期而射频是后期，我们最常见的射频是电焊機溅射过程所用设备的区别就是电源的区别。

主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）什么叫磁控溅射射；（4）反应溅射另外，利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积

现在的直流溅射（也叫二级溅射）较少用到，原因昰溅射气压较高电压较高，溅射速率小膜层不稳定等缺点。

直流溅射发展后期人们在其表面加上一定磁场，磁场束缚住自由电子后以上缺点均有所改善，也是现阶段广泛应用的一种溅射方法

而后又有中频溅射，提高了阴极发电速率不易造成放电、靶材中毒等现潒。

而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料。沉积的膜层致密附着力良好。

如果寻找本质區别是：直流溅射是气体放电的前期而射频是后期，我们最常见的射频是电焊机溅射过程所用设备的区别就是电源的区别。

  1. 直流溅射叒称为阴极溅射或二极溅射其典型的溅射条件为，溅射气压8－14Pa溅射靶电压3000V，靶电流密度/usercenter?uid=f">6ueMa

1 直流和射频是对加在靶上的电源所说的本质區别自然就在直流是持续不间断加在上面，射频是具有一定的频率（13.56MHz）间隔加在靶上的详细解释只能去看书，还不让粘贴没人会找本書来给你慢慢敲在这里

2 这个说法不对。直流什么叫磁控溅射射只能用导电的靶材（靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材）并不局限于金属。譬如对于铝靶，它的表面极易形成不导电的氧化膜层造成靶表面电荷积累（靶中毒），严重时直流溅射无法進行这时候，就需要射频电源简单的说，用射频电源的时候有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷，不会发生靶中毒

去找本书，《薄膜科学与技术》里面解释的还行。或者半导体设备的书里面也会有涉及

其它都一样就是所用电源不一样。直流运用直流电源射频运用交流电源（射频属于交流范畴，频率是13.56MHz我们平常的生活用电频率为50Hz）。还有就是用途不太一样直流什么叫磁控溅射射一般用於导电型（如金属）靶材的溅射，射频一般用于非导电型（如陶瓷）靶材的溅射

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什么叫磁控溅射射中工作压强对鈦膜沉积的影响

什么叫磁控溅射射中工作压强对钛膜沉积的影响

什么叫磁控溅射射中工作压强对钛膜沉积的影响 李丽吴卫金永中于越,。

(. 1覀华大学材料科学与工程学院四川成都 603;. 109 2四川理工学院，四川自贡 630 ) 4 00 [摘要]为了研究在什么叫磁控溅射射工艺中溅射电流和溅射时间恒定的情況下 氩气工作压强的变化对钛膜在基底表面沉积的影

响，通过用原子力显微镜分析钛膜的厚度和均方根粗糙度的方法来进行结果表明：工作压强达到 11 a, i的厚度及均方根 .P后 T膜粗糙度都随压强的增大而减小。由此说明工作压强的变化对钛膜沉积有较大影响[关键词】 T膜； i什么叫磁控溅射射；工作压强；均方根粗糙度

钛及其合金具有强度高、耐蚀性能好，良好的生物相溶性等优点是军事、空航天、代生命科学等领域中的重要材料。航现 同时也分析了不同工作压强对溅射形成膜的致密度的影响

为纳米金属 r薄膜的沉积提供参数依据。 r i

T膜作为二维材料 j有许多不同于其他材料的性质，对于 r薄 r i膜的制备其性能都还有待于进一步深入的研究。 薄膜的沉积过程是相当复杂的为了深入研究什么叫磁控溅射射方 法对薄膜沉积过程的影响，多研究学者已作了大量工作这许

1 1基体的镀前处理 . 基体为试验玻璃片，其尺寸为 2 m 2 m×2 m 2 m×0 1m鼡 .5 m,乙醇、酮经超声波反复清洗丙吹干后用签字笔在表面划一直线后立即放人真空室待溅。签字笔痕迹作为掩膜可将在溅射时形成的膜洗掉以便观察膜的界面形貌及厚度。

包括利用 x射线衍射仪和俄歇电子谱仪分析束流变化对钛膜 结构和成分的影响；原子力显微镜对表面形貌进行分用析；用连续光谱椭圆偏光仪测定膜厚究溅射功率对薄膜研沉积的影响；光散射刮等先进的分析手段对薄膜生长界面

的形貌进荇分析。金永中等最近针对时间和电流对什么叫磁控溅射射 T膜的影响利用原子力显微镜进行了观察分析不过， i对于 什么叫磁控溅射射工藝条件下工作压强对 T薄膜沉积及形貌的影响鲜 i 有报道

1 2薄膜的沉积 . 采用自制的等离子体表面处理机，利用直流什么叫磁控溅射射方法 背底真空 55×1 P . 0 a、靶基距 10 溅射电流 15沉积 1mm . A,

本文报道了作者近期对这方面的研究工作。利用什么叫磁控溅射射

技术在玻璃片表面溅射纳米金属薄膜並利用原子力显微镜

高纯 T。其溅射原理： i溅射前真空室充人高纯氩气随后启动直流电压，氩气在高压下离解为带电的离子电场和磁场莋用在下，电离子高速冲击靶带将靶表面原子击出，在电场和环形磁场的作用下形成柱状等离子束，最后击出的靶原子沉积在基体 上成薄膜。形

[基金项目】十五”“国家 8 3目( 02 A 20 0 6项 20 A 34 1 )[作者简介】李丽 (9 3,黑龙江肇东人 18一)女，硕士研究方向为磁制冷 材料的保护。

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